Plasma in general Plasma Cleaning 관련 문의
2021.11.30 15:37
안녕하세요.
Plasma를 이용한 Cleaning 공부를 하고 있는 직장인 입니다.
Remote Plasma Asher 설비를 공부하고 있는데요,
PR Remove 시에는 O2 Gas를 사용하여 제거하는 것으로 알고있습니다.
C + O* → O2↑
여기서 O2를 Plasma로 방전시키고, N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는데,
여기서 Carrier gas는 말 그대로 Radical을 이동시키는 역할만 하는 것인가요??
N2 Gas를 Carrier gas로 사용하는 이유가 궁금합니다.
추가로 Corrosion 방지를 위해 H2O Gas도 사용하는 것으로 알고 있는데요,
H2O 로 Corrosion을 방지하는 원리도 설명 부탁드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76691 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57159 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68680 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92218 |
667 | plasma 공정 중 색변화 [1] | 599 |
666 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 601 |
665 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 602 |
664 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 605 |
663 | 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] | 607 |
662 | ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] | 607 |
661 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 612 |
660 | 플라즈마 기본 사양 문의 [1] | 615 |
659 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 623 |
658 | 플라즈마를 알기 위해선 어떤 과목을 공부해야 할까요? [1] | 627 |
657 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 632 |
656 | Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] | 635 |
655 | Polymer Temp Etch [1] | 652 |
654 | analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] | 656 |
653 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 663 |
652 | [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] | 668 |
651 | 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] | 672 |
650 | 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] | 673 |
649 | 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] | 679 |
648 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 684 |