Others RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유

2022.07.08 16:18

빡깽 조회 수:1216

안녕하세요. 최근 RF Power Reflect 감소를 위해 Plasma에 대해 공부하고 있는, 반도체 회사 직장인입니다.

 

다름이 아니라, RF Power의 Hunting성 Reflect를 감소하기 위해 Gas Flow를 Ramping 형식으로 평가한 자료를 보내되었습니다.

Gas를 이와 같이 점진적으로 증가시키며 Flow할 때와, 한번에 Set Flow를 했을 때

Plasma 형성의 차이와, 왜 이 같은 방식이 RF Power의 Hunting을 감소시키기 위한 방안인지에 대한 상관관계에 대해 궁금증이 생겨 글을 남기게 되었습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
663 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 594
662 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 598
661 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 599
660 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 601
659 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 614
658 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 617
657 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 629
656 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 633
655 Polymer Temp Etch [1] 635
654 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 641
653 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 650
652 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 650
651 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 651
650 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 652
649 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 661
648 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 671
647 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 673
646 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 675
645 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 676
644 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 678

Boards


XE Login