안녕하세요,

 

플라즈마를 방전시킨 방전수에 활성화된 다양한 산소 및 질소 활성종의 정량 분석을 하고자 합니다.

 

그 중, 과산화수소의 정량 분석을 위해 hydrogen peroxide assay kit 을 구매를 했는데, 분석 시 시료의 적정 ph가 7~8 이어야 한다고 합니다.

그런데 저의 시료인 방전수는 ph가 2.6 정도로 산성이라 완충용액을 이용해 ph를 높여야 하는 상황입니다.

 

질문은 두 가지 입니다.

1. kit 에 동봉되어 있는 buffer solution 의 ph는 7.4 인데, 이를 이용해 ph 를 높인다면 엄청난 양을 사용해야하는데, 그렇다면 좋은 방법이 아닌 것 같습니다. 혹시 추천하시는 방법이 있으신지 여쭤봅니다.

 

2. 플라즈마 방전을 시키게되면 시료에는 산소 및 질소 이온과 라디칼이 있는 풍부한 상태인데, 수산화기를 포함한 buffer 를 사용한다면  이들과 반응해 과산화수소의 농도에 영향을 미치지 않을까 염려됩니다. 영향이 없을지 여쭤봅니다.

 

혹여 답변을 해주시기 힘드시면 관련 분야를 연구하시는 전문가 분을 소개해주시면 정말 감사하겠습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [158] 72990
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17583
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55512
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65684
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86000
705 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. new 2
704 Self bias 내용 질문입니다. [1] 58
703 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 65
702 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 75
701 self bias [1] 76
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 88
699 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 109
698 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 112
697 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 178
696 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 195
695 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 199
694 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 207
693 plasma modeling 관련 질문 [1] 234
692 ESC DC 전극 Damping 저항 243
691 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 246
690 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 260
689 plasma striation 관련 문의 [1] file 261
688 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 269
687 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 270
686 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 272

Boards


XE Login