안녕하세요 저는 RF Plasma 관련 직종에 근무하는 직장인 입니다.

 RF generator에서 Frequency tuning (주파수 가변)  기능을 사용하고 있는데, 주파수 변화에 따라서 Matcher에서 읽혀지는 Vrms 값이 심하게 변화하는것을 확인하였습니다.

Frequency 높아질수록 (13.56Mhz 기준) Vrms 높아짐 / Irms 큰변화 없음 / Phase 높아 지는데, 왜 Frequency 변화에 따라 Vrms와 Phase가 변하고, Irms는 큰 변화가 없는 것일까요?

주파수에 따른 Vrms, Irms, Phase의 연관성을 알수 있을까요.

조언 부탁드립니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [233] 75736
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19419
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56648
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67966
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90148
557 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 983
556 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 990
555 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1001
554 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1003
553 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1005
552 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1005
551 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1005
550 플라즈마 코팅 [1] 1013
549 공정플라즈마 [1] 1028
548 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1032
547 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1042
546 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1050
545 wafer bias [1] 1053
544 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1063
543 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1071
542 플라즈마 챔버 [2] 1074
541 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1076
540 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1079
539 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1091
538 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1094

Boards


XE Login