안녕하세요. 일반 회시에 다니는 회사원입니다.

다름이 아니고 마이크로웨이브파를 이용 플라즈마 발생장치에 관심이 있어 질문 드립니다.

만약 마그네트론 + 리액터 + 웨이브가이드  3개로 구성된 장치가 있는데 만약 여기에 사용되는 전력이 플라즈마를 발생시키기 위해서 마그네트론

과 리액터내 플라즈마를 발생시키기 위한 전력만 소모되는지요? 마그네트론은 1kw짜리 이고 리액터에 사용되는 플라즈마 발생장치는 저온 플라즈마(500~600도) 입니다.

개발업체에서는 플라즈마를 발생시키기 위해서 사용전력이 많이 들어간다고 하는데 얼마정도 인지 확인이 안되고 있습니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75788
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19473
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56680
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68067
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90361
538 자기 거울에 관하여 new 1101
537 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] new 1102
536 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] new 1102
535 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] new 1108
534 Group Delay 문의드립니다. [1] new 1109
533 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] new 1110
532 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] new 1111
531 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] new 1114
530 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] new 1132
529 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] new 1133
» micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] new 1149
527 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] new 1168
526 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [1] new 1170
525 ICP lower power 와 RF bias [1] new 1178
524 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] new 1180
523 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] new 1186
522 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] new 1188
521 플라즈마 관련 교육 [1] new 1207
520 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] new 1216
519 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] new 1219

Boards


XE Login