안녕하십니까 교수님 항상 성심성의것 답변해 주신것 감사합니다.

 

저는 CCP plasma를 다루는 반도체 장비 회사를 다니고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 여러가지 조건으로 Split test를 하는 와중에 샤워헤드와 척 사이의 갭을 늘렸더니 

 

플라즈마가 켜졌을 때 Matcher의 Vrms가 초반 몇 초 동안 급격히 상승하는 현상이 발생했습니다.

 

운이 없었다면 아킹이 발생하고 웨이퍼가 깨졌을 수도 있었던 상황이라 생각합니다.

 

 

이런 상황에서 pressure를 낮췄을 때는 Gap을 늘려도 상대적으로 안정해지는 경향이 파악 되었습니다.

 

왜 Gap이 커지면 불안정해지고, 여기서 Pressure를 낮추면 Gap이 커져도 상대적으로 안정해 지는 걸까요??

 

감사합니다~!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
563 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1062
562 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1063
561 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1072
560 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1078
559 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1088
558 전자 온도 구하기 [1] file 1098
557 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1099
556 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1101
555 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1107
554 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1113
553 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1118
552 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1118
551 wafer bias [1] 1119
550 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1122
549 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1122
548 자기 거울에 관하여 1130
547 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1133
546 Group Delay 문의드립니다. [1] 1134
545 공정플라즈마 [1] 1136
544 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 1141

Boards


XE Login