플라즈마를 이용해서 가스 분해를 해봤는데요

분광진단을 통해서 플라즈마 토치의 위치별 분해된 종들의 rotational temperature를 측정해 봤습니다.

근데 어떤 한 분해종이 플라즈마 토치중심부에서  위로 올라갈수록 온도가 올라가는 경향이 타나났습니다.

이런 현상이 나타나는 원인이 무엇인가요? 몇번을 측정해도 같은 결과가 나오더군요

혹시 rotational temperature가 밀도와 관련이 있나요? 그 분해종은 저온영역에서 밀도가 급속도로 높아지는 경향이 보이거든요

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73078
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17643
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65732
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86105
467 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1306
466 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1306
465 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1313
464 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1316
463 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1321
462 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1322
461 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1337
» 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1344
459 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1347
458 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1358
457 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1382
456 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 1388
455 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1389
454 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 1408
453 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 1442
452 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1444
451 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1447
450 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1467
449 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1467
448 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1478

Boards


XE Login