CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
2020.01.02 18:46
안녕하십니까?
이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.
그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,
그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.
에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.
(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)
확인 및 답변 부탁드립니다.
새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76542 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20078 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57116 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68615 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91697 |
543 | 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] | 1144 |
542 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1145 |
541 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1146 |
540 | O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 | 1147 |
539 | ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] | 1159 |
538 | 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] | 1173 |
537 | RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] | 1176 |
536 | Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] | 1193 |
535 | micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] | 1205 |
534 | 플라즈마 챔버 [2] | 1208 |
533 | 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] | 1211 |
532 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1216 |
531 | 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] | 1232 |
530 | Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] | 1234 |
529 | 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] | 1250 |
528 | ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] | 1267 |
527 | 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] | 1268 |
526 | 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] | 1268 |
525 | 플라즈마 기초입니다 [1] | 1279 |
524 | [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] | 1287 |
상기관련, 에쳐장비에서 HF/LF의 기본적으로 접지를 잡는방법이 궁금합니다.
또한 그라운드관련 그라운드 기능을 하는 하드웨어파트가 없어도, 큰 무리는 없는지 궁금합니다.
확인 부탁드립니다.
감사합니다.