Plasma in general 데포 중 RF VDC DROP 현상
2021.07.29 15:44
안녕하세요 반도체회사 장비 엔지니어입니다.
박막 과정 데포 중 RF VDC가 드랍 되는 현상이 있습니다. GAS양, CH 내 PRESSURE, 등등 변하는 것이 없는데 왜 갑자기 DROP 되는 걸까요?
영향을 줄만한 인자가 어떤 것이 있을까요? 장비를 잘 쓰다가 갑자기 DROP이 일어나고 그 이후는 다시 올라 오지 않습니다 ㅠ
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76728 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20190 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
549 | 공정플라즈마 [1] | 1145 |
548 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1156 |
547 | O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 | 1156 |
546 | RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] | 1156 |
545 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1157 |
544 | 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] | 1162 |
543 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 1167 |
542 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1172 |
541 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1176 |
540 | ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] | 1178 |
539 | 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] | 1183 |
538 | RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] | 1191 |
537 | micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] | 1220 |
536 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1223 |
535 | 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] | 1226 |
534 | 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] | 1237 |
533 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1239 |
532 | 플라즈마 챔버 [2] | 1242 |
531 | Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] | 1243 |
530 | 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] | 1270 |
저도 원인에 대한 확신은 없습니다. 다만, 관련되는 현상으로 floating electrode 표면에서 형성되는 bias을 Vdc라 하니, Vdc, 혹은 부유 전극에 selfbias가 형성되는 과정을 공부해 보시면 원인 해결에 실마리를 찾지 않을지요? 부유 조건이 만족하지 않으면 전하 충전에 의한 self bias가 형성되지 않습니다. 여기서 부유 전위라면 플라즈마와 대면하고 있는 시편의 부도체 coating 표면도 포함이 되니 이 점 참고하시어 기본 현상에서 원인을 찾아 보시기를 추천드립니다.