Matcher RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [Ground와 Clamp]

2022.04.19 11:40

맨시티챔스우승 조회 수:1147

안녕하세요

측정장비 분야에서 일하고 있는 연구 엔지니어입니다.

 

ICP(13.56MHz) 이용해 플라즈마 띄우고 Standard L-type Matching Network 사용중입니다.

Matcher에 대해 어느정도 이론은 이해했다고 생각했는데 현실은 다르네요.

 

안테나와 Matcher 間 거리, 안테나의 길이, Clamp로 엮는 위치 등등 모든게 변수가 되는 것 같습니다...

이러한 이유로 Plasma를 띄운 후 Current 값이 계속해서 안정적이지 못하고 뛰는 것 같은데 혹시 이러한 값들도 영향을 미치나요?

 

혹시 최선의 값을 알고 계신다면 알려주시면 진심으로 감사하겠습니다.

바쁘신 연구 와중에도 항상 저희에게 도움을 주셔서 감사합니다.

 

, , 이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82294
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21901
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58689
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70315
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96096
584 고진공 만드는방법. [System material과 design] [1] 1127
583 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [Langmuir probe와 ground] [1] file 1143
582 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [Remote plasma 이해] [1] 1143
» RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [Ground와 Clamp] [1] 1147
580 Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1148
579 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1152
578 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1154
577 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1156
576 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1166
575 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1175
574 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1182
573 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1183
572 자기 거울에 관하여 1187
571 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1196
570 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1203
569 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1205
568 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1218
567 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1226
566 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1232
565 Plasma Arching [Plasma property] [1] 1232
쓰기
태그

Boards

XE Login