Monitoring Method Wafer particle 성분 분석

2019.03.26 06:46

키보드매니아 조회 수:2320

안녕하세요.

반도체업계 종사자인 이우림이라고 합니다


다름이 아니라 300mm wafer위에 파티클 오염 분석을 진행중인데요.

혹시 300mm wafer를 coupon이 아닌 full wafer 상태로 삽입하여 wafer위의 파티클 성분 분석이 가능한 장비를 보유한 연구소를 알고 계신지요?

향후 분석에 꼭 필요한데 해당 장비 보유한 연구소를 찾지 못하는 상황입니다.

혹은 장비 관련 정보라도 알려주시면 감사하겠습니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20181
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
489 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1463
488 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1463
487 charge effect에 대해 [2] 1465
486 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1485
485 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1498
484 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1506
483 plasma 형성 관계 [1] 1513
482 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1514
481 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1514
480 데포 중 RF VDC DROP 현상 [1] 1533
479 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1561
478 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1598
477 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1598
476 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1605
475 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1607
474 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1643
473 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1660
472 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1660
471 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1668
470 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1676
쓰기
태그

Boards

XE Login