안녕하세요~

Plasma로 Wafer에 위에 감광액의 Ashing하는 설비를 담당하는 구태영이라고 합니다.

현 장비는 M/W,RF와 O2,N2를 사용하여  Plasma를 생성하고 있습니다.

진공챔버 내에 Plasma 발생시 Wafer 주위에 분홍빛이 나며, 그 위에는 백색빛이 나면서 Plasma가 형성됩니다.

분홍빛은 Bias에 의한 Plasma 밀도랑 관련있다고 알고 있습니다.

여기서 제가 궁금한점 문의드리겠습니다.

1) 분홍빛이 띄는 곳이 Plama의 밀집 되어 있는 부분이 맞는가요?

2) 분홍빛과 백색빛의 차이를 알고 싶습니다.

3) Plasma에 의하여 Wafer에 Damage를 발생할 수 있는 부분을 알고 싶습니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91696
463 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1734
462 터보펌프 에러관련 [1] 1737
461 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1771
460 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1778
459 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1784
458 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1791
457 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1808
456 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1829
455 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1831
454 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1855
453 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1861
452 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1871
451 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1878
450 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1879
449 가입인사드립니다. [1] 1880
448 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1889
447 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1889
446 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1899
445 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1904
444 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1904

Boards


XE Login