안녕하세요. 카이스트에서 석사 1년차로 있는 대학원생입니다.

 

Single probe로 electron energy probability distribution을 구할 때, low energy electron은 bulk plasma에서 평형 상태에 도달한 전자들을 지칭하고 high energy electron은 cathode에서 방출되고 probe sheath를 통해 bulk plasma로 가속되는 전자들을 지칭하는 것으로 알고 있습니다.

 

이 두 그룹의 전자들을 구분할 수 있는 식이 따로 있는지 궁금합니다. 실험을 통해 얻은 EEPF에서 몇 eV부터 몇 eV까지는 low energy electrons이고 몇 eV부터 몇 eV까지는 high electrons이다 라는 형태의 답을 얻고 싶습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76714
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
448 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1911
447 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1914
446 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1933
445 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1941
444 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1950
443 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1951
442 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1951
441 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1961
440 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1970
439 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1981
438 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1983
437 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1984
436 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 2001
435 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2008
434 chamber impedance [1] 2009
433 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 2009
432 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2013
431 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2049
430 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2126
429 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2127

Boards


XE Login