Others 고온 플라즈마 관련

2012.06.04 11:49

몽돌 조회 수:8090

안녕하세요?

배가스의 SOx와 NOx 처리에 저온 플라즈마를 사용하는데 관련된 논문이 있었는데,

그 중에서 Radical 생성이 잘 되지 않아서 문제가 있는 것을 봤습니다.

혹시 고온 플라즈마를 사용하여 Radical 생성을 더 잘 생성시킬 수 있을까요?

만약 고온 플라즈마가 Radical을 더 잘 생성시킬 수 있다면 왜 지금까지 연구하신 분들이 모두 저온 플라즈마를 사용하는 방안을

연구하셨을까요? 거기에 다른 이유가 있나요?

빠른 답변이면 감사하겠습니다.
이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76683
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68679
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92199
367 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3323
366 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3366
365 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3399
364 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3403
363 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3435
362 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3442
361 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3488
360 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3514
359 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3523
358 ESC Cooling gas 관련 [1] 3524
357 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3556
356 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3609
355 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3641
354 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3678
353 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3684
352 Descum 관련 문의 사항. [1] 3717
351 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3740
350 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3747
349 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3794
348 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3890
쓰기
태그

Boards

XE Login