안녕하세요.

저는 정전척 제조 회사에 근무하고 있는 서보경입니다.

정전척 관련하여 궁금한 것이 있어 이렇게 문의를 드리게 되었습니다.

자사 5.5세대 정전척 제품이 공정 진행 후 Gate 앞쪽 부위의 외각 He-hole 부위에 burning 현상이 많이 나타납니다.

이러한 현상은 glass를 chucking 하기 전에 이미 plasma 가 유입이 되어 이로 인하여 burning 현상이 나타나는 것으로 예상을

하고 있는데요. 그렇다면 이 현상에 대해 메카니즘이 어떻게 되는 것인지 궁금합니다.  

도움을 주시면 정말 감사하겠습니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79459
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21313
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58112
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69673
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94538
324 자료 요청드립니다. [1] 6260
323 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [ER과 energy transport] [1] file 6272
322 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [Reaction rate 및 reaction rate coefficient] [1] file 6303
321 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [공동형 토치의 운전법 및 방전특성이해] [2] 6421
320 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [플라즈마 임피던스 및 내부 임피던스 변화] [2] 6433
319 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문 드립니다! [플라즈마 발생 방식과 성질] [1] 6440
318 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [나노 분말 생성 및 제어 연구] [1] 6470
317 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [물리적/화학적 세정] [4] 6492
316 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6523
315 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure] [1] 6554
314 플라즈마 데미지에 관하여.. [Charge의 축적과 damage] [1] 6569
» 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매커니즘 문의.. [플라즈마 leak와 국부방전] [1] 6582
312 플라즈마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [Plasma 이온화] [1] 6582
311 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6612
310 안녕하세요, 질문드립니다. [플라즈마 토치와 환경처리] [2] 6614
309 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [표면 화학 반응] [2] 6620
308 저온플라즈마에 관해서 [플라즈마 방전의 특성] [1] 6819
307 ETCH 관련 RF MATCHING중 REF 현상에 대한 질문입니다. [플라즈마 응답 특성] [1] 7247
306 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [Bias power] [1] 7320
305 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [High Power RFG] [2] 7558

Boards


XE Login