안녕하세요. 제가 최근에 플라즈마 코팅관련 회사에 입사하여 현재 플라즈마 공부중 입니다.

현재 VPS장비로 테스트 중인데 0~1 torr 보다 30~50 torr 일 떄 플라즈마제트의 모습이 훨씬 안정적인 이유를 어떻게 설명할 수 있을까요?

0~1 torr 일 때는 플라즈마의 형상이 지나치게 두껍고 불안정적인 모습입니다. 반면 챔버 내부의 압력을 증가시켰을 때는 훨씬 안정적이고

얇은 플라즈마의 형태를 띄고 있습니다. 이를 residence time과 관련해서 이해를 해야할까요?

아직 많은 논문들을 찾진 못했지만 대부분의 논문에서도 30~300 torr로 실험한 조건들이 많아 보였습니다.

또 다른 한가지 질문은 VPS 공정에서 분위기가스 즉 챔버내를 아르곤같은 불활성기체로 채워주는 이유는 단순하게 산화나 질화등을 막기

위함인가요? 분위기가스의 역할을 어떻게 정의하면 될까요?

기초적인 질문 죄송합니다. 답변 주시면 감사하겠습니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75426
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19161
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56479
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67556
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89365
708 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 320
707 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 320
706 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 324
705 plasma modeling 관련 질문 [1] 329
704 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 338
703 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [1] 350
702 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 354
701 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 356
700 plasma 공정 중 색변화 [1] 358
699 plasma striation 관련 문의 [1] file 363
698 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 367
697 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 369
696 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 387
695 self bias [1] 389
» VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 391
693 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 392
692 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 395
691 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 399
690 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 406
689 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 406

Boards


XE Login