Ashing H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점...

2010.04.10 19:15

Park Sang Il 조회 수:24498 추천:163

안녕하세여... 자료를 찾던중 도저히 모르겠어서 답변 부탁드립니다. 현재 H2 플라즈마로 표면 처리를 하고 있습니다. 그러나, 폴리머 계통이 잘 Ashing되지 않아, O2를 쓰려고 합니다. 몇몇 업체에서는 미량의 산소를 수소와 함께 쓰는 것으로 알고 있습니다. 그러나 산소와 수소가 섞이면 반응하는 것으로 알고 있어서 위험할 것 같아서 질문드립니다. 수소 플라즈마에 산소를 섞으면 얼마의 비율로 섞어야 하는지 궁금합니다. 정확한 수치가 없다면, 제가 찾아봐야할 관련자료라도 알려 주시면 고맙겠습니다. 감사합니다. 답변 꼭 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75427
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19163
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56479
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67557
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89368
88 플라즈마 코팅에 관하여 22026
87 Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] 22116
86 Peak RF Voltage의 의미 22433
85 Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22468
84 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22514
83 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22515
82 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22562
81 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22573
80 CCP/ICP , E/H mode 22584
79 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22702
78 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22854
77 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22869
76 고온플라즈마와 저온플라즈마 22952
75 No. of antenna coil turns for ICP 22966
74 DC glow discharge 23102
73 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23157
72 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23181
71 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23218
70 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23295
69 Arcing 23505

Boards


XE Login