안녕하세요 박사님. 플라즈마 장비를 다루는 반도체 장비 회사에 다니는 연구원입니다.

항상 좋은 글 잘 보고 있습니다.

 

다름이 아니라 저희가 현재 유입하는 Gas의 유량을 조절하여 이것이 공정에 어떤 영향을 끼치는지 분석하고 있습니다.

 

저희가 펌프의 Valve를 고정해놓고 실험을 했기 때문에 유입시키는 Gas 양을 줄이면서 자연스럽게 Pressure 또한 줄어 들었는데,

이 때 Gas의 Residence Time 이 어떻게 변하는지 궁금합니다.

 

같은 양의 Gas라고 하더라도 Residence time에 따라 공정 결과 값이 바뀔 것 같은데 

이 Residence time은 어떻게 구할 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
723 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 391
722 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 394
721 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 399
720 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 405
719 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 419
718 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 420
717 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 423
716 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 424
715 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 426
714 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 429
713 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 437
712 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 438
711 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 440
710 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 440
709 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 441
708 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 445
707 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 446
706 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 450
705 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 455
704 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 459

Boards


XE Login