안녕하세요. 반도체 회사에 근무중인 회사원 입니다.


다름이 아니고 PECVD로 박막 증착 시 Radical들의 움직임에 관해 궁금한 점이 있어서 글을 올립니다.


Radical이 Wafer위에서 migration후 반응하여 island를 만들고 그 섬들이 성장하여 박막을 형성하는 것으로 알고 있는데


Radical이 가지는 에너지, 기판의 온도, 기판을 이루는 물질과의 결합에너지 등을 통해 Radical이 기판위에서


평균적으로 얼마나 움직이는지, 어느 위치를 안정적인 site로 인식하고 반응하는지 등을 알 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5605
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16887
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51348
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64212
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84189
611 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 483
610 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 489
609 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 489
608 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 493
607 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] 503
» 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 507
605 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 508
604 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 510
603 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 510
602 anode sheath 질문드립니다. [1] 513
601 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 514
600 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 515
599 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 520
598 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 521
597 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 535
596 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 543
595 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 551
594 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 552
593 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 554
592 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 565

Boards


XE Login