CCP 라디컬의 재결합 방지

2021.06.25 15:30

피했습니다 조회 수:778

안녕하세요. CCP 플라즈마 관련해서 연구를 하고 있는 엔지니어입니다.

항상 좋은 가르침 덕분에 많이 배우고 있습니다.

 

이번에 여쭙고 싶은것은 CCP플라즈마 공정 시 생기는 라디컬들의 재결합(Recombination) 입니다.

 

저희는 RF플라즈마로 CCP 환경에서 플라즈마를 만들고, 현재 파워전극의 반대편에 기판을 놓기 때문에 이온 충돌에 의한 식각 현상은 없다고 보고 있습니다.

 

이런 상황에서 저희가 기본적으로 OH와 H 라디컬 생성을 위해 H2O를 집어넣는데요. 

산소 라디컬도 필요하게 되어 O2가스도 집어 넣을까 생각하고 있습니다.

그런데 궁금한 것은 H2O 라디컬에서 H, OH가 모두 나오는데  여기서 생성된 H라디칼과 O2라디칼이 재결합을 해서 기판과의 반응이 효율이 제대로 나오지 않을 수도 있다는 것입니다.

 

 --> O2 라디컬을 추가하면 H 라디컬과 재결합이 일어나면서 오히려 반응 효율을 떨어뜨리게 될까요?

아니면 재결합은 많이 일어나지 않고 OH, H, O 라디컬이 모두 기판과 잘 반응할 수 있을까요??

 

교수님은 어떻게 생각하시는지요?

 

혼자 생각해 보기로는 Residence time을 조정해서 실험 해볼 수 있지 않을까 합니다.

Residence time이 길면 재결합을 하기 위한 충분한 시간이 주어지는 것이라고 볼 수 있을까요?

 

혹은 N2나 Ar 같은 분위기 가스들이 재결합을 어느정도 막아준다고 들었는데 이런 가스들을 더 추가하면서 재결합을 막을 수 있을지 궁금합니다.

 

언제나 감사합니다!

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
703 plasma striation 관련 문의 [1] file 461
702 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 462
701 PECVD Uniformity [1] 466
700 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 467
699 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 469
698 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 469
697 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 474
696 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 477
695 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 480
694 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 491
693 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 495
692 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 502
691 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 508
690 self bias [1] 513
689 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 515
688 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 525
687 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 535
686 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 536
685 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 537
684 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 542

Boards


XE Login