슬라이드2.JPG
슬라이드3.JPG


슬라이드4.JPG


슬라이드5.JPG


슬라이드6.JPG


안녕하세요.

코로나방전, 이온풍에 굉장히 관심이 많은 학생입니다.

물어볼곳이 없어 많이 힘드네요 ㅠㅠ

제가 공부한 내용들을 파워포인트로 정리 해봤는데요

혹시 내용이 맞는지 어디가 잘못되었는지 궁금합니다.

조언 부탁드립니다.

감사합니다~!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5897
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17347
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53168
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65103
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85192
378 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] 5341
377 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5244
376 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5116
375 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5013
» 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 4979
373 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4759
372 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4551
371 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 4488
370 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 4476
369 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4283
368 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4143
367 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 4024
366 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 3979
365 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 3975
364 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3955
363 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3894
362 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3629
361 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3609
360 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3554
359 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 3486

Boards


XE Login