Matcher MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance]

2018.04.11 18:14

심국보 조회 수:1574

안녕하세요

Ar + O2 wafer 크리닝 설비에

AE사 의 1000W 짜리 RF파워랑 매쳐를 사용하고 있는데요

공정조건이 진공도 250mTorr에 800W에 800초인데 공정진행중 

MATCHER 내부에 TUNE 코일을 고정하는 세라믹부에 발열이 너무 심해서 타버렸습니다.

왜 이런 현상이 일어나는지 조언좀 얻을수 있을까요

챔버의 임피던스 문제인지 매쳐가 고장인지....ㅠ

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] 82703
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21975
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58756
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70388
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96322
324 Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching] [1] 1585
323 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 1583
322 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1580
321 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극] [1] 1578
320 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘] [1] 1578
319 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1577
318 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1574
» MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance] [3] 1574
316 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [플라즈마 토치에서의 Rotational temperature] [1] 1574
315 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1567
314 Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과] [1] 1562
313 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 1559
312 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1544
311 Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정] [2] 1543
310 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실] [1] 1541
309 강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net] [2] 1540
308 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1532
307 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1515
306 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1508
305 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1506
쓰기
태그

Boards

XE Login