Monitoring Method Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정]

2018.10.16 16:20

멋과머엇 조회 수:1539

Etch stop control 장치인 EPD ( End Point Detector)를 공부하고있는 최상봉입니다.

플라즈마가 형성되는 영역과 Sheath 영역으로 구분되는데, Sheath영역에는 전자만 존재한다고 들었습니다.

플라즈마 영역에서의 레디칼과 바이 Product을 OES로 모니터한다는데

질문1] Sheath 영역에서는 Etch 상태를 어떻게 모니터링 할 수 있을까요? 

질문2] 온도측정 시 Sheath 영역과 플라즈마 영역의 온도가 다른가요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82017
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21856
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58639
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70263
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95957
324 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 1578
323 Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching] [1] 1578
322 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1577
321 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1571
320 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘] [1] 1571
319 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1569
318 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극] [1] 1569
317 MATCHER 발열 문제 [Mathcer와 plasma impedance] [3] 1568
316 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [플라즈마 토치에서의 Rotational temperature] [1] 1565
315 Ar plasma power/time [Self bias와 sputtering 효과] [1] 1557
314 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1556
313 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 1553
» Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정] [2] 1539
311 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [Global model] [1] 1537
310 강의를 들을 수 없는건가요? [플라즈마 진단 심포지움 및 PSES-net] [2] 1536
309 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [챔버 벽면 성질 및 가스 손실] [1] 1528
308 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1526
307 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1506
306 low pressure영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니다. [파센 커브와 글로우 방전] [1] 1504
305 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1502
쓰기
태그

Boards

XE Login