질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76726 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20175 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57166 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68697 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92275 |
| 229 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 1103 |
| 228 | Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] | 1087 |
| 227 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 1080 |
| 226 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1071 |
| 225 |
고전압 방전 전기장 내 측정
[1]  | 1065 |
| 224 | 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] | 1059 |
| 223 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1056 |
| 222 | RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] | 1056 |
| 221 | etch defect 관련 질문드립니다 [1] | 1056 |
| 220 | Plasma Arching [1] | 1051 |
| 219 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1050 |
| 218 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1045 |
| 217 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1037 |
| 216 | 플라즈마 코팅 [1] | 1036 |
| 215 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1030 |
| 214 | Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] | 1028 |
| 213 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1021 |
| 212 |
langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다.
[1] | 1016 |
| 211 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1011 |
| 210 | 고진공 만드는방법. [1] | 1008 |