ESC [질문] 석영 parts로인한 특성 이상
2011.09.04 20:31
안녕하세요.
큐에스아이라는 회사의 coating field를 담당하는 우병화 사원이라고 합니다.
현재 자사 ECR sputter에서 석영 parts 를 세정하여 재사용하고 있습니다.
그런데 세정 후에 장착하면 원하는 target(al2o3)의 반사율과 굴절율의 특성 이상이 보이는 현상이 있습니다.
세정 잘못으로 인한 반사울 굴절율 값이 상이해는지 경우가 있는지 문의 드립니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76683 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57155 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68676 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92189 |
227 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 1099 |
226 | Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] | 1086 |
225 | 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] | 1073 |
224 | Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] | 1068 |
223 | 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] | 1062 |
222 | 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] | 1055 |
221 | RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] | 1055 |
220 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1052 |
219 | etch defect 관련 질문드립니다 [1] | 1047 |
218 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1046 |
217 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1045 |
216 | Plasma Arching [1] | 1039 |
215 | 플라즈마 코팅 [1] | 1036 |
214 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1036 |
213 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1029 |
212 | Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] | 1028 |
211 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1020 |
210 | langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] | 1012 |
209 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1011 |
208 | 고진공 만드는방법. [1] | 1006 |