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232 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1245
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230 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 1236
229 플라즈마 코팅 [The Materials Science of Thin Films] [1] 1231
228 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [I-V characteristic 방전 커브] [2] 1227
227 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [오존발생기] [1] 1225
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224 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1217
223 RF tune position과 Vms의 관계가 궁금합니다. [Chamber component, Matcher] [1] 1212
222 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 1209
221 Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요? [임피던스 매칭] [1] 1207
220 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리] [1] 1205
219 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law] [1] 1203
218 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 1202
217 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [Atmostpheric pressure plasma jet] [1] 1199
216 RF MATCHING관련 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 Impedance와 matching 설계] [1] 1196
215 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1189
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