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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69620
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163 Arcing과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [Self bias와 DC glow 방전] [1] 757
162 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [질소 플라즈마] [1] 756
161 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [Self bias] [1] 750
160 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 748
159 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 747
158 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 745
157 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [Plasma heating] [1] 731
156 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 730
155 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [RF 접지 및 체결, 결합부분 교체] [1] 729
154 RPC ClEAN시 THD 발생 [RF shield와 ground의 강화] [1] 720
153 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 714
152 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 707
151 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time [TVP(Thorottle Valve Position)] [1] file 695
150 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 692
149 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [플라즈마 밀도 및 전위 제어] [1] 689
148 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [Sheath 전기장 및 instability] [1] file 687
147 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 680
146 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 679
145 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 668
144 프리쉬스에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion 및 collisionless sheath] [1] 665

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