Remote Plasma RPSC 관련 질문입니다.

2016.07.18 19:13

인선니아 조회 수:3189

안녕하세요

Remote Plasma Source Cleaning 에 대해 질문이 있습니다.


PECVD Chamber Cleaning을 위해 RPSC를 사용한다고 알고 있습니다.


Plasma를 챔버안에서 안터트리고 외부에서 만들어서 챔버 데미지를 안입힌다고 하는데 그 개념이 잘 이해가 안됩니다.

그럼 RPSC에서 터트리면 RPSC도 데미지를 입게되나요?

아니면 유도 전기장을 이용해서 데미지가 적은것인가요?


또한 직접 Chamber 에서 플라즈마 터트려 Cleaning 하는 것보다 Cleaning 주기도 길다고 하는데요.

그 이유도 궁금하네요.


답변 부탁드릴게요 ㅜㅜ


감사합니다.

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