안녕하세요 세종대학교에 재학중인 학부생 김지현 입니다.

저는 방학동안에 연구실에서 실험을 배우는 중입니다. 저희 연구실은 그래핀에 대해 연구하는 곳입니다.

제가 photo lithography를 배우는 과정중에  산소 플라즈마 처리를 사용하는데, 플라즈마가 무엇인지 궁금하여 공부중입니다.

plasma etching에 대해 찾아보던중에 사용하는 기체들이 용도에 따라서 다른데 그 차이점들을 알고 싶습니다,

그래핀을 O2 플라즈마에서 처리하는데 왜 O2를 사용하는지 궁금합니다. 즉 O2플라즈마의 특성에 대해 궁금합니다. 

그리고 질소플라즈마와 아르곤 플라즈마의 특성과 차이점이 무엇인지 궁금합니다. 

질문이 다소 복잡해서 다시 정리하자면 플라즈마 에칭 공정을 할때 용도에 따라 다른 기체들을 사용하는데, 어떠한 특성때문에 

다른지 궁금합니다. 


감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5604
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16886
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51348
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64212
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84187
371 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5140
370 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5007
369 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 4941
368 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 4865
367 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 4618
366 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 4382
365 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4261
» O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 4245
363 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4058
362 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4051
361 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3952
360 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3838
359 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 3818
358 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 3666
357 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 3573
356 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3530
355 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3512
354 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3433
353 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3170
352 RPSC 관련 질문입니다. [2] 3093

Boards


XE Login