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번호 | 제목 | 조회 수 |
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공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] | 79541 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 21328 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 58124 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 69689 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 94583 |
804 | RF에 대하여... | 32325 |
803 | ICP 플라즈마에 관해서 [2] | 32229 |
802 | RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다. | 31767 |
801 | DC Bias Vs Self bias [전자 에너지 분포] [5] | 31757 |
800 | [Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching] [1] | 31326 |
799 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. | 30274 |
798 | 플라즈마 밀도 [Langmuir 탐침과 플라즈마의 밀도] | 30255 |
797 | PECVD에서 플라즈마 demage가 발생 조건 [쉬스와 플라즈마 밀도에 의한 damage] | 29905 |
796 | matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] | 29803 |
795 | 플라즈마의 정의 | 29588 |
794 | 물질내에서 전하의 이동시간 | 29424 |
793 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching] [1] | 29225 |
792 | 플라즈마를 이용한 오존 발생장치 [Ozone과 Plasma] | 29040 |
791 | 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [Mean free path] [1] | 28969 |
790 | Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시] [1] | 28757 |
789 | 플라즈마와 자기장의 관계 | 28645 |
788 | 반도체 관련 질문입니다. | 28609 |
» | esc란? | 28181 |
786 | sheath와 debye sheilding에 관하여 [전자와 이온의 흐름] | 28084 |
785 | 탐침법 | 28029 |