ICP Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여

2018.12.21 07:56

정용진 조회 수:1655

안녕하세요, dusty 플라즈마를 활용해서 나노소재를 만드는 연구를 하는 한 학생입니다.


플라즈마 electron density 를 증가하고자 CCP 에서 ICP 로 바꿔서 실험을 진행하고 있는데요,


Ar gas 만 흘럿을때는 매우 아름다운 ICP 효과를 얻을 수 있는데,

O2 gas 를 넣는 순간 ICP 효과가 사라집니다.


튜브 사이즈는 직경 2인치이고, power 는 200 W 정도 인가하였는데 

매칭박스의 매칭이 잘 되지는 않습니다. 


주로 CCP 만 사용하다가 ICP 를 사용하게 되어 매칭박스에 관해 지식이 짧은데,

혹시 ICP 를 사용할때는 이 모드에 맞게 매칭박스를 바꾸어야 하는지요?


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
303 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1485
302 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1477
301 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1475
300 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1471
299 plasma 형성 관계 [1] 1464
298 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1456
297 charge effect에 대해 [2] 1454
296 플라즈마 rotational temperature에 관해서 질문드릴게 있습니다. [1] 1452
295 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1450
294 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1449
293 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1448
292 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1445
291 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1442
290 알고싶습니다 [1] 1438
289 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1437
288 Ar plasma power/time [1] 1429
287 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1426
286 MATCHER 발열 문제 [3] 1425
285 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1417
284 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1413

Boards


XE Login