안녕하십니까 교수님. 반도체 장비회사에서 공정개발 직무를 담당하고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 플라즈마 식각기술 책을 읽는 와중에 궁금한 점이 생겨 이렇게 질문을 남깁니다.

 

책에서 접지된 전극에 기판을 놓을 경우 Radical에 의한 반응이 반응성 이온의 영향보다 크게 되고,

고주파 전극에 기판을 놓게 되면 반대로 되어 이방성이 커진다고 하는데 

 

집지된 전극에 기판을 놓을 경우 왜 Radical 반응이 주가 되는 건가요?

접지라는 것이 이 구조에서 어떻게 영향을 끼치는 것인지 궁금합니다.

 

항상 많이 배우고 있습니다.

감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82114
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21874
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58658
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70280
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96008
264 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1257
263 Group Delay 문의드립니다. [마이크로파] [1] 1249
262 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [Chamber impedance] [2] 1238
261 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1234
260 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [플라즈마 공간 분포 진단] [1] 1232
259 Plasma Arching [Plasma property] [1] 1230
258 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [Self bias] [1] 1226
257 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1216
256 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1205
255 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1202
254 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1194
253 자기 거울에 관하여 1187
252 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1183
251 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1180
250 Decoupled Plasma 관련 질문입니다.[플라즈마 내 입자의 거동] [1] 1172
249 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1165
248 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1154
247 진학으로 고민이 있습니다. [복수전공] [2] 1151
» CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1150
245 Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1147

Boards


XE Login