Plasma in general Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요?
2018.12.26 15:02
PLASMA SPACING은 고정한채 Frequency만 조절하여 플라즈마 세로 영역을 확장할 수 있을까요?
Frequecny가 low일수록 이온의 움직일 수 있는 시간이 늘어 이온이 아래위로 더 움직일 수 있을거 같은데
이를 증명할 수 있는 방법이나, 이 사실에 대해 아시는 분 답변 부탁드립니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76714 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20170 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57164 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68696 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92273 |
188 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 869 |
187 | 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] | 868 |
186 | 문의 드립니다. [1] | 867 |
185 | RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] | 862 |
184 | 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] | 855 |
183 | RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] | 853 |
182 | PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] | 845 |
181 | 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] | 843 |
180 | RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] | 842 |
179 | 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] | 839 |
178 | ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] | 832 |
177 | 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] | 823 |
176 | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 815 |
175 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 814 |
174 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 812 |
173 | ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] | 806 |
172 | 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] | 804 |
171 | DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] | 800 |
170 | Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] | 800 |
169 | 플라즈마 충격파 질문 [1] | 794 |
게시판의 plasma in general 항목에서 그 이유를 찾을 수 있지 않을까 합니다. 확인해 보세요. 참고로, plasma heating은 electron을 표면 반응은 ion을 활용합니다. 또한 각각의 열운동 특성이 다름으로 thermal velocity가 다르며, 이에 따라서 rf 시간동안 반응할 수 있는 거리를 추론해 볼 수가 있고, 이 기반으로 전극 gap 사이에서 플라즈마의 입자들이 얼마나 움직일 수 있는가를 따져 볼 수가 있겠습니다.