Others RPC CLEAN 시 THD 발생

2018.10.25 14:48

야키소바빵 조회 수:504

안녕하세요 반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.

현재 저희 설비에 2개의 CHAMBER가 달려 있습니다. RPC CLEAN을 사용하는 장비인데

두 CH가 동시에 CLEAN이 동작하게되면 공급단 POWER 관련하여 지속적인 ERROR 가 발생을 합니다.(따로 진행시 문제 없음)

고조파 측정시 2개의 CH가 동시에 CLEAN 진행시 높아지는 현상을 발견 하였으나, 그 원인을 찾기 힘들어 질문 드립니다.

POWER CABLING이 의심 되는 상황이나, CABLE 길이 및 위치, 혹은 말림 정도가 영향이 있는지 문의 드리고, 혹시 이 외에 다른 원인을 추측할만한 내용이 있을지 질문 드립니다.

현재 CABLE 연결 상태 및 POWER SUPPLY(설비단) 교체 등 다른 방법을 진행 해 보았으나, 현상이 동일하게 발생하여 설비단 보다는  공급단쪽 POWER를 의심하고 있는 상태 입니다.


혹시 이 글과 관련된 경험이 있으신분은 답변 부탁 드리겠습니다.

감사합니다.


이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73027
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17616
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55516
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86027
86 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 534
85 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 531
84 라디컬의 재결합 방지 [1] 528
83 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 526
82 RF 파워서플라이 매칭 문제 518
81 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 518
80 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 511
79 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 511
78 ICP 대기압 플라즈마 분석 [1] 509
» RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 504
76 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 502
75 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 496
74 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 493
73 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 487
72 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 485
71 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 484
70 활성이온 측정 방법 [1] 484
69 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 474
68 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 474
67 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 472
쓰기
태그

Boards

XE Login