안녕하세요 RPS 식각장비을 사용하는 중 문제가 발생하여 문의드립니다.


현재 RPS 장비를 이용한 폴리머 (SU-8, epoxy계열)의 식각 공정을 하는데, 주로 골드가 증착된 웨이퍼 위에 코팅한 폴리머를 지우는 용도로 쓰고있습니다.


사용하는 가스는 N2, O2, CF4 가스를 사용하고 있으며, 공정 조건은 0.45Torr 압력의 40도 공정조건을 사용하고 있습니다.


헌데 얼마전부터 에칭과정에서 골드기판이 손상되는 현상이 발생하였는데, 아직 그 원인을 찾지 못하고 있습니다. 이론적으로는 메탈이 손상될 일이 없어야하는걸로 알고 있습니다. 잠정적으로는. 폴리머 애칭시 생성되는 byproduct (HF) 에 의한 손상이라 생각되는데, HF의 높은 증기압을 생각하면 꼭 그렇지도 않은것 같고, 챔버의 벤팅문제라 생각되어 펌프를 정비받았으나, 이 또한 문제가 없다고 합니다. 


골드기판이 손상되는 경우에는 보통 풀라즈마 밝기가 평소보다 약하게 발생하는 특징이 있습니다. 이제는 플라즈마 정비 내부에 문제가 있다 생각이 되는데 교수님 의견을 듣고 싶습니다. 감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [297] 77472
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20573
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57504
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69019
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93133
194 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 841
193 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 841
192 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 834
191 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 832
190 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 828
189 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 827
188 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 822
187 플라즈마 충격파 질문 [1] 822
186 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 816
185 Collisional mean free path 문의... [1] 813
184 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 804
183 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 804
182 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 800
181 교수님 질문이 있습니다. [1] 795
180 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 789
179 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 788
178 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 783
177 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 781
» RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 775
175 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 773

Boards


XE Login