안녕하세요. 저는 유니스트에 재학중인 대학원생입니다.


이전에도 ICP CVD에 대해서 질문을 올렸었는데 그때 답변을 보고 문제점이 무엇인지 알수 있었습니다. 너무나 감사합니다.


그래서 이번에도 질문이 생겨 다시한번 찾아오게 되었습니다.


이번에 궁금한 점은 ICP CVD의 sample stage나 substrate에 magnetic property가 존재할 경우 plasma의 거동이 변하는지 변한다면 어떤식으로 변하게 될지 궁금하여 질문을 드립니다.


제가 찾아본 자료들을 보면 sample stage에 bias를 걸어서 deposition rate을 조절할수 있다는 자료들을 찾아 봤었습니다.


 그러다 문득 생각난게 magnetic field도 유사한 결과를 보여줄것 같은데 이렇게 생각해도 되는지 궁금합니다.


혹시 관련된 서적이나 논문 자료등 추천해주실 만한 자료가 있으시면 염치 불구하고 부탁드리겠습니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20075
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91694
144 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 692
143 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 689
142 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 686
141 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 677
140 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 676
139 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 671
138 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 669
137 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 668
136 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 661
135 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 650
134 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 650
133 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 649
132 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 648
131 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 638
130 Polymer Temp Etch [1] 634
129 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 633
128 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 628
127 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 617
126 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 614
125 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 601

Boards


XE Login