Others RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동

2009.08.05 12:52

조정안 조회 수:24714 추천:241

수고가 많으십니다.
저희 회사는 반도체, LCD장비 제작 회사들로 Motion Controller와 Servo ,Step Motor등을 공급하는 회사입니다.
업체 상담중에 문의사항이 있어서 조언을 구하고자 질문을 올려 드립니다.
Sputter 장비의 vacuum정도는 10 -3 torr, 공정온도는 약 100 도 정도입니다. Chamber내부에서 Motion을 구현 하고자 합니다. Chamber내부에 Vacuum용 모터를 사용하고자는데  RF 플라즈마에 의한 노이즈로 Motor 사용에 대한 부분을 우려하고 있습니다. 일반적으로 Chamber 외부로 Motion부분을 빼내어 메탈 벨로우즈를 이용한 방법으로 Motion을 사용한다고 하는데, Vacuum용 Motor를 RF 플라즈마 챔버내에서 사용하는 것이 가능한지 가능하다면 어떤 방법이 있는지 답변 부탁드립니다.
그럼 수고하십시요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75788
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19471
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56677
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68065
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90360
98 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 529
97 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 528
96 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 524
95 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 523
94 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 522
93 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 522
92 핵융합 질문 [1] 519
91 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 510
90 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 508
89 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 505
88 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 497
87 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 497
86 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 487
85 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 485
84 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 483
83 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 477
82 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 477
81 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 476
80 RF Sputtering Target Issue [2] file 471
79 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 464

Boards


XE Login