Sheath 플라즈마 쉬스

2004.06.21 15:11

관리자 조회 수:24013 추천:271

플라즈마 쉬스

플라즈마에서 생기는 쉬스(외장)이 전위차는 플라즈마 경계에서 생깁니다. 따라서 질문하신 내용, 즉 식각 플라즈마 내에서 wafer
stage 위의 wafer가 직접 플라즈마와 만나고 있음으로 이때 쉬스 전위는 wafer와 플라즈마 사이에 형성되는 것입니다. 물론, 만일
wafer를 제거하게 되면 당연히 stage표면과 플라즈마가 만나니 이 두 경계면에서 쉬스가 형성되겠지요. 아울러 stage위에 wafer와
같은 부도체 물체가 놓여 있는 경우 wafer표면에는 self bias에 의해서 전위가 낮아지게 됩니다. (도체에서는 이 같은 현상이 생
기지 않습니다.) 따라서 플라즈마는 wafer 표면의 전위를 자신의 경계면 전위로 생각하고 그 겨예 영역에서 쉬스가 형성됩니다.

질문자의 경우와 같은 식각 플라즈마에서 wafer bias를 인가하여 etching을 하는 경우 이 두가지, self bias와 sheath를 함께 생각
해야 합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [299] 77645
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20676
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57615
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69110
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93327
756 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 24471
755 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 24411
754 Dechucking 시 wafer 상의 전하 문제 24238
753 self Bias voltage 24182
752 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24132
» 플라즈마 쉬스 24013
750 plasma and sheath, 플라즈마 크기 24010
749 Arcing 23919
748 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23828
747 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23514
746 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23481
745 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23364
744 DC glow discharge 23297
743 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23295
742 고온플라즈마와 저온플라즈마 23221
741 No. of antenna coil turns for ICP 23166
740 CCP/ICP , E/H mode 23156
739 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23140
738 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22965
737 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22884

Boards


XE Login