Etch Dry Etcher 에 대한 교재

2009.08.07 17:14

김기권 조회 수:22379 추천:272

저는 LCD Dry Etcher 내 하부에 장착되는  ESC(Plasma ceramic Coating Type) 만드는 회사에 다니고 있습니다.
전공이 재료공학 인지라 Etcher 에 대한 설비, 공정진행 여러가지 모자란 부분이 많습니다. 이 부분을 독학 공부를 하고 싶은데 도움되는 교재를 추전해 주셨으면 좋겠습니다.  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [158] 72997
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17589
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55512
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65687
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86016
645 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23383
644 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] 23357
643 self Bias voltage 23292
642 plasma와 arc의 차이는? 23261
641 Arcing 23236
640 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23143
639 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23131
638 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23077
637 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23070
636 DC glow discharge 22942
635 No. of antenna coil turns for ICP 22843
634 고온플라즈마와 저온플라즈마 22805
633 [질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [3] 22787
632 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22769
631 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 22688
630 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22484
629 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22476
628 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22447
627 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22407
» Dry Etcher 에 대한 교재 [1] 22379

Boards


XE Login