Others 잔류시간 Residence Time에 대해
2021.06.08 10:34
안녕하세요 박사님. 플라즈마 장비를 다루는 반도체 장비 회사에 다니는 연구원입니다.
항상 좋은 글 잘 보고 있습니다.
다름이 아니라 저희가 현재 유입하는 Gas의 유량을 조절하여 이것이 공정에 어떤 영향을 끼치는지 분석하고 있습니다.
저희가 펌프의 Valve를 고정해놓고 실험을 했기 때문에 유입시키는 Gas 양을 줄이면서 자연스럽게 Pressure 또한 줄어 들었는데,
이 때 Gas의 Residence Time 이 어떻게 변하는지 궁금합니다.
같은 양의 Gas라고 하더라도 Residence time에 따라 공정 결과 값이 바뀔 것 같은데
이 Residence time은 어떻게 구할 수 있을까요?
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76714 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20170 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57164 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68696 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92273 |
| 253 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 146 |
| 252 | 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] | 392 |
| 251 | corona model에 대한 질문입니다. [1] | 169 |
| 250 | 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] | 206 |
| 249 | plasma 공정 중 색변화 [1] | 604 |
| 248 | E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] | 314 |
| 247 | self bias [1] | 527 |
| 246 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 814 |
| 245 | 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] | 170 |
| 244 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 869 |
| 243 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 387 |
| 242 | 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] | 1132 |
| 241 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1405 |
| 240 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 445 |
| 239 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1239 |
| 238 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 687 |
| 237 | 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] | 484 |
| 236 | Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] | 593 |
| 235 | MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] | 1116 |
| 234 | Bias 관련 질문 드립니다. [1] | 3411 |