Sheath LF Power에의한 Ion Bombardment

2021.06.24 22:36

PEOX 조회 수:2012

안녕하십니까 교수님!!.

가입없이 게시판으로 많은 가르침을 받아가다가 이제서야 질문이 있어 가입후 글을 쓰게 되었습니다.

 

PECVD에서..

HF는 electron 온도 증가로 인한 plasma density 향상

 

LF POWER의 증가는 ion bombardment 를 증가시켜 박막이 더 dense 해져 stress가 더 compressive쪽으로 간다라고 이해하는게 맞는 걸까요? 

density가 높아지는데 compressive한 stress를 가진다고 하는 매커니즘이 잘 이해가 되질 않습니다.

(density가 높으면 (더 빽빽하게 증착되면) 밀려서 사이드쪽으로 늘어날려고 해서 compressive 스트레스를 가진다라고 혼자 이해했는데 맞는건지요.

 

막질의 density가 올라가면 compressive한 스트레스를 가지는게 항상 그런건지

(원래 Tensile한 막질이더라도 LF power 증가하면 Compressive한 방향으로 바뀌나요?)

 

아니면 막질마다 그 효과가 다른건지 궁금합니다. 

 

 

 

추가로 HF영역에서는 frequency가 높으니 유효질량이 작고 mobility가 빠른 electron에 에너지를 더 가해주기 쉽고 

반대로 LF영역에서는  frequency가 낮으니 상대적으로 질량이 크고 느린 ion에 에너지를 가해주기 쉽다고 이해하는게 맞는걸까요?

 

 

 

질문자체에 잘 못된 점이 있다면 바로 잡아주시면 감사하겠습니다!.  

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76714
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68695
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92271
253 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
252 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 392
251 corona model에 대한 질문입니다. [1] 169
250 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 206
249 plasma 공정 중 색변화 [1] 604
248 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 314
247 self bias [1] 527
246 Self bias 내용 질문입니다. [1] 814
245 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 170
244 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 869
243 plasma modeling 관련 질문 [1] 387
242 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1132
241 플라즈마 관련 교육 [1] 1405
240 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 445
239 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1239
238 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 687
237 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 484
236 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 593
235 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1116
234 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3411

Boards


XE Login