교수님 안녕하세요. 디스플레이 장비사에서 근무중인 회사원입니다.

 

좋은 내용 정말 감사합니다. 많이 배우고 있습니다.

 

PECVD의 챔버와 standing wave effect에 관한 질문입니다. 

 

챔버의 크기가 클수록 standing wave effect에 의해 챔버 내의 플라즈마가 불균일 하게 형성되어 불균일한 필름이 증착되는 것으로 알고있습니다.

 

'용량결합형 전극에서 가이드링에 의한 전기장 제어' 논문(http://doi.org/10.5370/KIEE.2019.68.11.1465)의 2.1 전기장 불균일도 원인 내용에서 'Wave는 전도체 표면을 따라 전극 아래 중앙부로 이동한다. 이 현상은 축대칭으로 인해 전극 중앙 하부에서 축방향 전기정은 radial 방향으로 미분 값이 0이 되어야 한다. 따라서 전극 아래 중앙부에서는 시간에 따른 전기장이 가장 크거나 가장 작다.'
라고 설명이 나와있습니다. 

 

제가 드리고 싶은 질문은 wave가 중앙부에서 가장 강한지 궁금합니다. 또한 중심부에서 가장 큰 전기장이 형성 되더라도 전기장 에너지가 플라즈마 내부에서 확산되기 때문에 챔버 전체적으로 동일한 플라즈마 밀도를 가져야 하는것 아닌지가 궁금합니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5804
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17213
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53033
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64476
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85090
245 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 18
244 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 89
243 plasma modeling 관련 질문 [1] 150
242 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 789
241 플라즈마 관련 교육 [1] 709
240 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 231
239 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 684
238 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 350
237 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 256
236 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 381
235 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 593
234 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 2778
233 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4122
232 RF 전압과 압력의 영향? [1] 931
231 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 711
» standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 743
229 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 247
228 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 7326
227 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 803
226 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 772

Boards


XE Login