Plasma in general RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
2020.06.11 22:09
안녕하세요 반도체회사에서 CVD 공정에서 근무하고있는 사람입니다.
몇가지 질문이 있어 글을 올립니다.
1. 현재 CCP를 이용한 설비를 사용하고 있으며, RF/LF를 사용하고있는데 RF/LF의 역할에 대해 궁금합니다. RF는 전자에 거동에 영향을 주고 LF는 이온 거동에 영향을 준다고 간단하게만 알고있는데 이 내용이 맞는지요?
2. 현재 TEOS를 사용하여 CVD하고 있는 레시피 중 LF POWER가 낮은 레시피의 CVD 막질 두께의 UNIFOMITY가 LF POWER를 높게 쓰는 막질 두께의 UNIFORMITY보다 불량합니다. LF POWER가 낮은것이 막질 THK의 UNIFORMITY의 영향을 주는 것 일까요?
3. HF POWER의 세기도 CVD 막질 THK의 UNIFORMITY의 영향을 주는지 알고싶습니다.
마지막으로 항상 좋은 답변 좋은 내용 올려주셔서 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76726 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20181 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68697 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92276 |
213 | 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] | 780 |
212 | Collisional mean free path 문의... [1] | 787 |
211 | 플라즈마 충격파 질문 [1] | 794 |
210 | 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] | 804 |
209 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 815 |
208 | 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] | 824 |
207 | RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] | 854 |
206 | 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] | 856 |
205 | 문의 드립니다. [1] | 868 |
204 | RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] | 869 |
203 | 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] | 941 |
202 | Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] | 949 |
201 | 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] | 954 |
200 | O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] | 957 |
199 | 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] | 962 |
198 | RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] | 968 |
197 | 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] | 999 |
196 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1011 |
195 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1030 |
194 | 플라즈마 코팅 [1] | 1036 |