안녕하세요. 장비회사에서 근무하는 양철훈 이라고 합니다.

궁금한 점이 있어 문의 드립니다.

 - DC sputter에서 스퍼터링 건에서 전원부 말고 Sheild나 housing는 전기적으로 ground가 좋은가요 floating 시키는 것이 좋은지요. DC에서는 상관없을 수도 있다는 생각이 들기도 합니다.

 - 동일 질문을 RF sputter의 경우에 하면 어떤 것이 더 좋은지요. RF에서는 charging 문제로 ground가 되어야만 할 것같다는 생각이 들기도 합니다.

어떤 것이 더 좋은지와 이 이유 답변 부탁드립니다.

감사합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [299] 77635
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20669
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57609
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69109
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93315
199 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 1003
198 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 1020
» Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 1034
196 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1039
195 플라즈마 코팅 [1] 1050
194 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1066
193 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1072
192 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1089
191 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1149
190 자기 거울에 관하여 1156
189 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1168
188 Group Delay 문의드립니다. [1] 1174
187 wafer bias [1] 1179
186 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1181
185 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1209
184 전자 온도 구하기 [1] file 1216
183 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1228
182 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1265
181 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1294
180 플라즈마 기초입니다 [1] 1308

Boards


XE Login