Sheath 플라즈마 쉬스

2004.06.21 15:11

관리자 조회 수:24004 추천:271

플라즈마 쉬스

플라즈마에서 생기는 쉬스(외장)이 전위차는 플라즈마 경계에서 생깁니다. 따라서 질문하신 내용, 즉 식각 플라즈마 내에서 wafer
stage 위의 wafer가 직접 플라즈마와 만나고 있음으로 이때 쉬스 전위는 wafer와 플라즈마 사이에 형성되는 것입니다. 물론, 만일
wafer를 제거하게 되면 당연히 stage표면과 플라즈마가 만나니 이 두 경계면에서 쉬스가 형성되겠지요. 아울러 stage위에 wafer와
같은 부도체 물체가 놓여 있는 경우 wafer표면에는 self bias에 의해서 전위가 낮아지게 됩니다. (도체에서는 이 같은 현상이 생
기지 않습니다.) 따라서 플라즈마는 wafer 표면의 전위를 자신의 경계면 전위로 생각하고 그 겨예 영역에서 쉬스가 형성됩니다.

질문자의 경우와 같은 식각 플라즈마에서 wafer bias를 인가하여 etching을 하는 경우 이 두가지, self bias와 sheath를 함께 생각
해야 합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [295] 77444
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20550
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57476
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69003
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93063
280 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 47
279 플라즈마 장비 내부 온도 측정법 [1] 55
278 Druyvesteyn Distribution 70
277 플라즈마 사이즈 측정 방법 [1] 88
276 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 104
275 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 148
274 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 154
273 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 158
272 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 173
271 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 175
270 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 176
269 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 176
268 corona model에 대한 질문입니다. [1] 181
267 Microwave & RF Plasma [1] 193
266 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [2] 208
265 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 231
264 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 233
263 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 305
262 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 311
261 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 331

Boards


XE Login