안녕하세요 반도체 회사에 근무하고 있는 회사원입니다.

RF Power 를 이용하여 Film을 Deposition 하는 부서에 있는데요,

주요 관리 항목 중에 RF Vpp 항목이 있습니다.

RF Vpp 관련해서 문의드릴게 있습니다.


1. Ti Film을 RF Power를 이용하여 Dep하는데, Chamber 내부에 Ti Film이 더 많이 Depo 되면 RF Vpp는 조금씩

    떨어지는데 왜 그런건지 알 수 있을까요?

    업체에서는 Vpp와 Vdc가 반비례 관계여서 Vpp는 떨어지고, Vdc가 올라가게 된다고 하는데

    실상은 Vpp와 Vdc는 모두 떨어지는 Trend를 보이고 있습니다.


2. 두 번째로 Chamber의 RF Ground 역할을 하는 Stage Heater를 교체했는데,

    이전보다 RF Vpp Level이 떨어졌습니다. 무슨 연유에서 그런건지 모르겠는데 Ground가 바뀐 것만으로도 Vpp가 떨어질 수 있을까요?


설명이 부족하지만 도움 부탁드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76542
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
152 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2089
151 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2092
150 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2117
149 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2164
148 플라즈마볼 제작시 [1] file 2214
147 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2226
146 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2275
145 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2319
144 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2342
143 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2425
142 질문있습니다. [1] 2545
141 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2716
140 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2720
139 CVD 공정에서의 self bias [1] 3034
138 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3163
137 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3167
136 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3227
135 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3318
134 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3362
133 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3394

Boards


XE Login