반도체업종에서 종사하고있고 얕으나 RF를 이용한 Plasma에 대해 공부를 하는 사람입니다.

질문은 플라즈마 반응용기내에서 발생되는 플라즈마는 빛을 발생시키는데 쉬스영역은 하전입자 밀도가 낮기 때문에

발광현상이 없다고 알고있습니다. 또 쉬스는 부도체, Floating된 물체 표면에 플라즈마를 감싸는 형태로 존재한다고

알고있습니다. 그렇다면 플라즈마 반응용기는 Bulk 플라즈마를 제외하고 모든 영역이 쉬스로 감싸져있다고

생각하면 틀린건가요?

또 만약 쉬스가 반응용기내에서 Bulk 플라즈마를 감싸고 있는 형태라면 반응용기를 관찰하기 위한 Glass view port또한

감싸져 있을텐데 view port에서는 Bulk 플라즈마에서 발생되는 빛이 보입니다. 이건 어떻게 이해해야 될까요?

이해하기 쉽게 설명좀 부탁드립니다. 감사합니다.^^

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76542
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
152 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6125
151 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5911
150 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5649
149 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5116
148 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4740
147 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4127
146 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3915
145 Descum 관련 문의 사항. [1] 3698
144 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3673
143 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3668
142 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3554
141 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3435
140 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3394
139 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 3362
138 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3318
137 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3227
136 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3167
135 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3163
134 CVD 공정에서의 self bias [1] 3034
133 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2720

Boards


XE Login