교수님 안녕하세요.

 


1.
http://pal.snu.ac.kr/index.php?mid=board_qna_new&category=67497&document_srl=78754
(Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate)

 

글 두번째 문단에 '다음으로 플라즈마 밀도를 제어하기 위해서 edge ring 혹은 confinement ring 등을 써서 플라즈마 확산을 줄이고 있습니다.'
부분에 대해 질문드립니다.
→ edge ring 혹은 confinement ring을 통해 "플라즈마 확산을 줄여" 플라즈마 균일하게 밀도를 제어한다는 말씀이신데,

 

두번째 문단 '가운데 밀도는 비교적 높고 가장자리로 가면서 밀도는 떨어지게 됩니다.'
→ 가장자리로 갈수록 플라즈마 밀도가 떨어지는데,
"플라즈마 확산을 늘려야" 플라즈마 밀도를 균일하게 제어할 수 있는 것이라 생각해 이에 대해 질문드리고 싶습니다.


2. Edge Ring이 플라즈마 밀도의 균일성을 높이는 원리를 설명해주실 수 있을까요?

 

 

항상 이 곳에서 많은 도움을 받고, 공부하고 있습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
92 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1216
91 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1211
90 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1145
89 Group Delay 문의드립니다. [1] 1134
88 자기 거울에 관하여 1130
87 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1122
86 wafer bias [1] 1119
85 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1101
84 전자 온도 구하기 [1] file 1098
83 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1062
82 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1054
81 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1040
80 플라즈마 코팅 [1] 1032
79 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1028
78 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1025
77 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 999
76 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 982
75 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 959
74 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 952
73 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 949

Boards


XE Login