안녕하세요 반도체회사에서 CVD 공정에서 근무하고있는 사람입니다.

 

몇가지 질문이 있어 글을 올립니다.

 

1. 현재 CCP를 이용한 설비를 사용하고 있으며, RF/LF를 사용하고있는데 RF/LF의 역할에 대해 궁금합니다. RF는 전자에 거동에 영향을 주고 LF는 이온 거동에 영향을 준다고 간단하게만 알고있는데 이 내용이 맞는지요?

 

2. 현재 TEOS를 사용하여 CVD하고 있는 레시피 중 LF POWER가 낮은 레시피의 CVD 막질 두께의 UNIFOMITY가 LF POWER를 높게 쓰는 막질 두께의 UNIFORMITY보다 불량합니다. LF POWER가 낮은것이 막질 THK의 UNIFORMITY의 영향을 주는 것 일까요?

 

3. HF POWER의 세기도 CVD 막질 THK의 UNIFORMITY의 영향을 주는지 알고싶습니다.

 

마지막으로 항상 좋은 답변 좋은 내용 올려주셔서 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [329] 99603
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 24079
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60724
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 72671
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 103923
» RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [LF와 Sheath] [1] 3172
140 플라즈마 압력에 대하여 [Glow discharge와 light] [1] 2938
139 질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포] [1] 2919
138 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델] [1] 2889
137 LF Power에의한 Ion Bombardment [플라즈마 장비 물리] [2] 2709
136 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement] [1] 2636
135 plasma etching을 관련 문의드립니다. [반도체 공동 연구소] [1] 2622
134 플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전] [1] file 2571
133 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [Self bias의 이해] [1] 2552
132 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE] [1] 2546
131 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model] [1] 2528
130 플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge] [1] 2504
129 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2455
128 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문있습니다. [이온과 전자의 속도 차이와 Gate valve의 위치] [1] 2397
127 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2384
126 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [이차 전자의 방출 특성] [1] 2376
125 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath] [1] 2333
124 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [플라즈마 생성 분포와 sheath 전기장] [1] 2331
123 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [Ion energy와 heat, sheath energy] [2] 2323
122 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [Standing wave 운전 조건, 안테나 설계] [1] 2320

Boards


XE Login