질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92179 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76677
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20149
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57149
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68670
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92179
158 skin depth에 대한 이해 [1] 99
157 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 60
156 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 67
155 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 93
154 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 83
153 ICP에서 전자의 가속 [1] 126
152 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 149
151 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 135
150 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 78
149 플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할 [1] 317
148 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 347
147 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 524
146 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 246
145 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 671
144 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 593
143 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 672
142 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 428
141 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 612
140 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1162
139 ICP lower power 와 RF bias [1] 1428

Boards


XE Login